三星今天表示,经过验证和改进,基于3nm工艺的芯片已在不久的将来成功上市。下一步,它正在为批量生产3nm晶圆做准备。与老对手相比,三星的3nm工艺似乎有些晚,但两种工艺有所不同。台积电采用成熟的FinFET工艺,而三星采用的是下一代GAA工艺,三星还表示,与台积电的3nm工艺相比,三星的GAA工艺可以实现更好的电性能,从而使芯片性能更加突出。
三星表示,与目前的5nm工艺相比,晶圆的面积效率提高了35%,性能也提高了30%,而功耗则降低了50%。考虑到高性能计算的需求,预计移动芯片仍将采用新的3nm工艺。然而,近段时间来,虽然三星的纸张性能工艺相当不错,但芯片的使用体验却并不尽如人意。例如高通公司的小龙888处理器和英伟达的GPU都遭遇了高烧和功耗爆炸。3nm工艺的正式量产还有很长的路要走,三星能否充分优化3nm工艺尚不得而知。